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溫度&濕度控制單元，能有效維持其表面溫度的均一性。經(jīng)過此設(shè)備處理后的空氣，溫度控制精度可達目標值±0.01℃，充分滿足制程環(huán)境對溫控的要求。該設(shè)備的應用，不僅確保了產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定，更為產(chǎn)品的高良率提供了堅實保障。

恒溫恒濕控制機在基板曝光前，能有效維持其表面溫度的均一性。經(jīng)過此設(shè)備處理后的空氣，溫度控制精度可達目標值±0.01℃，充分滿足制程環(huán)境對溫控的要求。該設(shè)備的應用，不僅確保了產(chǎn)線環(huán)境的穩(wěn)定，更為產(chǎn)品的高良率提供了堅實保障。